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物理蒸镀法制备蒸镀型机用缠绕膜的过程
编辑:临朐县益泰兴塑料制品加工厂   发布时间:2020-10-20

  据了解,蒸镀氧化硅类型的隔断性缠绕膜的制作方法,有物理蒸镀(PVC)和化学蒸镀(CVC)两个大类。根据具体实施方法的不同,又有种种不同的方法。本文临朐县益泰兴塑料制品加工厂小编为大家解析其中物理蒸镀(PVC)的方法过程:

  物理蒸镀也可称之为物理气相沉积法,其包括了电阻丝蒸镀、电子束蒸镀与溅射等等。其中电阻蒸镀与电子束蒸镀需要在高温状态下使 SIO气化。而溅射沉积运用单元素靶材进行溅射,有着沉积温度较低,沉积速率高,靶材不受限制,镀膜质量良好的优点。

  1、电阻丝蒸镀法:

  电阻丝蒸发镀法是在真空室之中,用电阻丝加热S0,温度可达1700℃,高温及真空使 SIO2的以原子或分子的形态从其表面气化逸出,形成蒸气流,此蒸气流在素材的表面沉积,形成了含SIOX镀层的隔断式机用缠绕膜。

百万彩票APP下载  2、电子束蒸发镀膜的方法:

  该法是将SI0,放入到水冷铜堆锅之中,直接用电子束进行加热,使其蒸发气化,而后凝结在基材的表面上形成含SIOX镀层的隔断性包装缠绕膜。电子束轰击了热源的束流,其密度高,能够获得比电阻加热源还大的能量密度,蒸发的温度较高(电子束加热的能量约达20KW/CM2,温度更可达3000-6000℃),因而相当适合制作高熔点缠绕膜类材料和高纯缠绕膜材料,而且有相当高的蒸发速度。由于热量可以直接加入到蒸镀材料的表面,因而热效率高,热传导与热辐射的损失少,所生产的SIOX隔断性机用缠绕膜的隔断性,较之电阻丝蒸镀法生产的产品,也有显明提高。

  3、溅射法:

  溅射法亦称磁控溅射法或高速低温溅射法。

  用单元素靶材溅射并通入反应气体,进行的反应称之为反应溅射,经过调节沉积的工艺参数,可制备化学配比或非化学配比的化合物缠绕膜,从而达到调节了缠绕膜镀层的构成以调控机用缠绕膜性能的目的。磁控溅射法和蒸发法进行比较,有着镀膜层和基材的结合力强,镀膜层致密、均匀等优点。磁控溅射的其它优点有设备简单,操作方便等等,在溅射镀膜的过程之中,只要保持工作气压与溅射功率的恒定,基本便可获得较为稳定的沉积速率。磁控溅射的较大缺点是沉积的速率较低,此外可能会发生靶的损害,引起的打火和溅射过程不稳定及膜缺陷等等,这些问题制约了它的实际运用,尚有待进一步改进。

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